根岸製作所

様々な製品の開発に取り組んでいます
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開発業務

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多方面に渡り、様々な研究・開発を行っています。
防爆遠赤外線乾燥機、ＶＯＣ回収装置等はその成果と過言ではありません。
今後もこれまで以上に機械・電気・化学の分野の壁をなくした製品開発を行っていく所存です。

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Pfフラットセラミック開発　　平成１８年～２０年
防爆遠赤外線乾燥機として、平成20年9月にSLセラミックのフラット型に成功し、
温度分布、クリーンルーム仕様、低温での照射量等の課題であった問題もクリ
ア出来、防爆検定取得にもよりよい安定したデータ収集が可能となりました。

非防爆エリアにおいて弊社ログタイプに比較し数倍の能力を確認しています。
（Pfフラット）


焼窯

焼窯

フラット型セラミック製作模様
クリーンルーム対応　　クリーンルーム非対応

Pfセラミックス




凹凸無

表面溝なし

VOC回収装置　　平成１７年～
VOC回収装置は10m3/min風量以下の製作でしたが、2010年4月からの風量規制に伴い50m3/min風量以上、安価な装置の開発を行っています。

構造は従来の吸収液にVOC吸収させ、吸収した液を蒸留することにより液及びVOCを再利用する方式です。


現在装置購入価格及びランニングコストが安価の条件をクリアするべく開発を行っています。

特徴は吸収液（NEGISHIKEN開発）とバブリングの装置構造にあり、平成22年1月現在、50m3/min装置にて、トルエン、ＭＥＫ、酢酸エチル等のVOCガスにおいては1CHで60～85％クリアしています。（2HCでは80％以上）

ＰＡＴ関係の再申請を完了し公表したいと考えています。
（VOC回収装置）
50m3/min
50ｍ3/min　1ch　VOCウォッシャー

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